觀點網訊：10月14日，正在國家會展中心（上海）舉行的第二十六屆中國國際工業博覽會上，朗道燧巖首次公開展示了一臺EUV光源系統樣機。

這是目前公開展示中進度最靠前的國產EUV光源樣機，被稱作高端光刻機的“心臟”。

極紫外光源是7nm及以下先進製程芯片製造的三大核心零部件之一，長期受海外技術壟斷與禁運限制，是制約中國高端芯片自主可控的關鍵環節。

現場工作人員介紹，本次展出的光源系統國產化率達90%，絕大多數核心零部件為自主研發，技術路線與國際領先廠商一致，可用於芯片曝光測試。

不過，該光源系統距離量產仍需3至5年時間。

朗道燧巖官網顯示，其低功率EUV光源系統FlintNano LPP-OXXO已處於產品化階段，驅動激光功率為1000W，激光頻率1至20kHz，轉換效率大於2%，EUV能量大於15W，持續工作時間超過100小時，等離子體尺寸60微米。