觀點網訊：9月15日，摩根大通分析師與荷蘭光刻機巨頭ASML管理層會面後表示，ASML正研究在2028年生產逾110部極紫外光（EUV）光刻機，以應付AI帶動的需求。

ASML早前已表示，2027年的EUV光刻機產能幾近售罄，當年可生產至少80部，並計劃在2028年把產量提高約30%。摩根大通引述ASML管理層指，目前需求仍然“非常非常強勁”，大部分新訂單已是2028年交付。

摩根大通指出，ASML目前擴大EUV產量的主要限制並非供應鏈，而是EUV光刻機的組裝速度。另據港經報引述ASML表態，隨着激光技術進步，公司目前沒有需要轉用馬斯克支持的自由電子激光（FEL）光源方案。

客戶方面，摩根大通預計，英特爾在2027年將再次成為ASML的重要客戶。該行並指，今輪芯片製程對EUV的使用強度正在增加，即每枚芯片使用EUV光刻的程度提高，預計將進一步推高設備需求。