觀點網訊：10月16日，廣州新銳光掩模科技股份有限公司申報的高端半導體光掩模前沿技術研發項目備案複核通過，項目當前狀態為辦結（通過）。

該項目位於廣州市黃埔區新芯光產業園新芯光一街2號，總投資5.77億元。

項目擬利用現有廠房約200平方米，通過實施研發場地裝修及改造，購置高端光刻、高端量檢測等研發設備與工藝校準等軟件，開展高端半導體光掩模技術研究、工藝開發及產品研發，並推進產業鏈協同研發與驗證。

項目起止年限自2027年1月1日起。該項目屬於《產業結構調整指導目錄（2024年本）》“鼓勵類”第二十八類信息產業第4條集成電路。