觀點網訊：近日，ASML及其光學合作伙伴Carl Zeiss的工程師在一篇經同行評審的論文中表示，作為ASML最先進芯片製造設備的繼任者，新一代被命名為“Hyper NA”的設備預計將在約10年內問世。

論文指出，該設備將在大量複用兩家公司現有技術的同時，實現更精細的電路圖案化，儘管仍面臨諸多挑戰。

目前ASML已開始研發該設備，但尚未承諾投入生產。