觀點網訊:近日,上海芯上微裝科技股份有限公司宣佈,其自主研發的350nm步進投影光刻機(AST6200)已通過國內化合物半導體領域頭部客戶的全流程工藝驗證,並獲得批量重複訂單,正式從研發落地階段走向商業化批量交付。
該設備可應用於功率器件、射頻前端、光電子芯片及MicroLED新型顯示等製程場景,研發定位專門針對碳化硅、砷化鎵等化合物半導體生產。
2025年11月,首臺AST6200完成出廠調試與驗收,併發往客戶生產現場。
近日,芯上微裝自主研發的350nm步進投影光刻機AST6200通過國內化合物半導體頭部客戶工藝驗證,獲批量重複訂單,正式進入商業化批量交付階段,可應用於功率器件、射頻前端等製程場景。
觀點網訊:近日,上海芯上微裝科技股份有限公司宣佈,其自主研發的350nm步進投影光刻機(AST6200)已通過國內化合物半導體領域頭部客戶的全流程工藝驗證,並獲得批量重複訂單,正式從研發落地階段走向商業化批量交付。
該設備可應用於功率器件、射頻前端、光電子芯片及MicroLED新型顯示等製程場景,研發定位專門針對碳化硅、砷化鎵等化合物半導體生產。
2025年11月,首臺AST6200完成出廠調試與驗收,併發往客戶生產現場。
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